ペリクル付きクロムガラスマスク
ペリクルとは、投影露光用クロムマスクで用いられるを異物から守る防塵保護カバー付のマスク
特徴
ゴミがピンボケし、ゴミが結像しないためパターンの欠損を回避することが可能です
静電破壊対策クロムガラスマスク
特殊材料を用いることで、静電気によるクロム金属の破壊を抑制することが可能です
特徴
静電破壊を抑制することで歩留まりの向上が見込めます。
キャリブレーションプレート（精度校正用プレート・基準マスク）
キャリブレーションプレートは、各種装置の日常点検や精度補正に用いられる製品です。
パターンの形状は、ドット・グリッド・線状のチャートパターンが一般的ですが、任意で設計することも可能です。
駆動デバイスの位置精度チェックや光学デバイスの解像度チャックが主用途となっており、FA分野のお客さまへ多数の納入実績がございます。
レジスト原版
レジスト原版は、フォトレジストを用いて立体的な構造を形成した製品です。樹脂モールドや電鋳モールドとする用途での実績がございます。
フォトマスク製造で培った技術を応用し、高精細なレジスト形成が可能。大型化にも対応していますので、ぜひご相談ください。
コーティング
特殊コートによりクロム表面の離型性を向上させます。
| 項目 | 仕様 | 備考 | ||||
|---|---|---|---|---|---|---|
| 膜質 | 高密着性フッ素コーティング剤 | |||||
| 膜厚 | 10～20nm | |||||
| 膜硬度 | 鉛筆硬度5H以上(JIS5600K) | JIS5600K 鉛筆硬度計 | ||||
| 撥水性 | 接触角 100°以上 | |||||
| 透過率 | 365nmの波長において99%以上（基板との相対比較） | 分光光度計 | ||||
| 耐溶剤性 | 溶剤 | IPA | MEK | アセトン | エタノール | 500ｇ/cm³ ラビングテスト |
| 撥水性 | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | スポットテスト1時間 | |
| 耐薬品性 | 耐アルカリ：5％KOH水溶液 | 耐酸：H2SO4（濃度96％） | スポットテスト1時間 | |||
| 変化なし | 変化なし | |||||
| 対応サイズ | 3 ｘ 3 ～（単位：inch） | |||||
コーティング比較
各種マスクの製造は1枚から
承っております
試作用に1枚から対応してもらいたい。小ロットでのご依頼など柔軟に対応しております。まずはお問い合せください。
